黄仁勋在最近的峰会上表示，中国将在2030年前成功开发自己的先进光刻机。他认为一旦相关技术成熟，中国企业将具备强大的大规模生产能力，国产设备进入国内晶圆厂仅是时间问题。国外对中国光刻机进展持续关注，蔡司半导体的负责人曾表示，中国要实现自主EUV光刻机的目标可能需要更长的时间，但黄仁勋的观点则显得更为乐观。虽然EUV光刻机和其他类型的光刻机技术存在不同，但两者在半导体制造中都有其重要性，2030年时DUV光刻机依然会保持其先进地位。
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